前沿导读

荷兰驻韩大使范德弗利特在接受采访时指出，全球多个地区都在布局光刻技术的研发，这是科技竞争中的常态，荷兰并没有单独针对中国。并且荷兰正在积极推进与韩国芯片企业之间的合作，不只是ASML，其他荷兰的半导体公司也正在与韩国企业保持密切合作。

密切合作

荷兰与韩国在近几年的半导体产业上进行了高强度的技术合作，2025年10月，三星宣布投入1.1万亿韩元引进两台ASML的第二代EUV。此前三星已经在京畿道园区部署过一台同样的设备，但是该设备主要用于研发环节，此次引进的两台设备将会重点聚焦于芯片的量产制造。

11月，ASML宣布在韩国建设的华城园区正式竣工。该园区内设有DUV、EUV光刻机等先进设备的零部件制造中心和先进技术的培训中心，将会进一步加强与三星、SK海力士等韩国芯片企业的合作。

三星作为全球范围内少有的横跨内存制造、闪存制造、逻辑芯片制造的半导体企业，先进光刻机的引入是尤为重要的。不但可以提升三星在逻辑芯片领域的技术发展，还可以提升三星在高带宽内存（HBM）上面的产能扩充，以适应ai产业大爆发所导致的内存高需求。

既然提到了三星，就必然会提到三星的兄弟企业SK海力士。

SK海力士与三星类似，同样横跨了闪存和内存制造。根据SK海力士官网的新闻指出，SK海力士在2025年9月首次完成了HBM4的研发与量产体系，在25年第四季度开始出货，并且同时引进了ASML制造的第二代EUV，用于存储器的制造生产。

除ASML之外，ASML最初的股东荷兰ASMI（阿斯麦国际半导体设备公司）也与韩国企业在半导体领域建立了合作。

ASMI主要负责的设备领域是原子层沉积、化学气相沉积等前道技术设备，此前在韩国京畿道华城地区建设有研发与生产基地，其总投资达到了1362亿韩元。

韩国已经成为了ASML在先进技术领域合作的重点对象，目前对ASML第二代EUV表达采购欲望的企业，只有英特尔、三星、SK海力士。台积电的技术底蕴深厚，而第二代EUV的价格又偏高，所以台积电表示暂不采购，继续利用当下的第一代EUV制造先进芯片。

而备受关注的中国大陆市场，多年前被美国实施出口管制，禁止获得ASML的EUV设备。

并且正在推进的match法案还持续对中国企业施压，在封锁EUV设备的前提下，继续封锁浸润式光刻机的对华出口，还要求相关企业停止对中国现有设备的售后维护工作，迫使中国企业走上自立自强的技术道路。

常态化竞争

在谈及中国自主研发光刻机是否会对ASML的垄断地位造成冲击时，荷兰驻韩大使范德弗利特表示这是科技竞争的常态化情况，并没有因此单独针对中国，全球各半导体企业都在竞争下一代的设备与技术。

尽管范德弗利特表示没有单独针对中国企业，但是此前美国实施的对华制裁措施，ASML一直都处于被动跟随的状态。

如今全球先进制程技术呈现出三种状态，第一种是台积电、三星主导推动的GAA晶体管结构，第二种是美国英特尔推动的背面供电技术，第三种则是华为近几天推出的韬定律。

前两种都是基于ASML推出的EUV光刻机进行制造，而华为推出的韬定律则是在尝试不依赖先进设备的情况下，通过对内部电路进行分层设计，以垂直互联的方式进行连接，缩短元器件之间交换数据的时间。

韬定律所衍生的逻辑折叠技术，可以在相同工艺下缩短信号走线、提升等效晶体管密度与芯片能效。目前基于华为逻辑折叠技术的芯片产品还未发布，需要等到今年的秋季发布会才能体验到该技术的真实水平。

据华为半导体业务总裁何庭波发布的论文表示，从2020年至2026年，华为半导体总共设计并量产了381颗芯片，服务于移动设备、ai、汽车、工业、基础设施市场。在整个产品组合当中，一直在推动华为韬定律的验证，并且韬定律的核心论点也经受住了考验。

在先进设备受限的情况下，设计企业开始尝试在内部设计上面进行调整，并且设备企业还在积极推进国产设备的制造应用，不放过任何一个可以提升技术的方法。

此前ASML CEO富凯在参加比利时科技活动时呼吁称，制造设备的对华出口需要制定更为合适的规则，ASML目前被允许向中国出口的设备是基于2015年打造的技术平台，已经落后8代了。如果进一步收紧制裁措施，只会迫使中国企业加快自主技术的研发进度。