来源:新浪证券-红岸工作室
10月25日消息,国家知识产权局信息显示,西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请一项名为“电荷捕获层的制备方法、衬底结构及射频器件”的专利。申请公布号为CN122971185A,申请号为CN202611235673.4,申请公布日期为2026年10月23日,申请日期为2026年8月14日,发明人刘贵浩、王文娟、车宇航、张博、兰洵,专利代理机构西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙),专利代理师宋东阳、侯丽丽,分类号H10P14/24、H10B43/30。
专利摘要显示,本公开涉及电荷捕获层的制备方法、衬底结构及射频器件。在一方面中,提供了一种电荷捕获层的制备方法。该方法包括:在衬底上沉积形成第一多晶层;中断沉积,并向第一多晶层的表层引入晶格缺陷,以在表层形成再形核点;以及在引入晶格缺陷的所述表层上继续沉积形成第二多晶层,以获得所述电荷捕获层;其中,第一多晶层的厚度为电荷捕获层的目标厚度的30%~60%。由此,提高了电荷捕获层的捕获能力。
西安奕材是国内12英寸半导体硅片领域核心厂商,2016年3月16日注册成立,2025年10月28日登陆上海证券交易所,注册及办公地均位于陕西省西安市。
公司专注于12英寸硅片的研发、生产和销售,所属申万行业为电子-半导体-半导体材料,同时覆盖大硅片、半导体、MCU概念板块。
2026年三季度,西安奕材实现营业收入26.51亿元,在所属7家半导体材料样本企业中排名第4,当期行业营收第一名有研新材为84.62亿元、第二名立昂微为33.2亿元,行业平均营收31.05亿元,公司营收水平与行业中位数持平;同期实现净利润1.51亿元,同样在7家样本企业中位列第4,行业净利润第一名中船特气为6.61亿元、第二名有研新材为2.59亿元,行业平均净利润2.01亿元,公司净利润也与行业中位数持平。
| 指标类型 | 当期数值 | 行业排名/总家数 | 行业头部企业数值 | 行业平均数 | 行业中位数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 营业收入 | 26.51亿元 | 4/7 | 第一名有研新材84.62亿元,第二名立昂微33.2亿元 | 31.05亿元 | 26.51亿元 |
| 净利润 | 1.51亿元 | 4/7 | 第一名中船特气6.61亿元,第二名有研新材2.59亿元 | 2.01亿元 | 1.51亿元 |
西安奕斯伟材料科技股份有限公司近期专利情况如下:
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 氢离子注入方法、氢离子注入系统及绝缘体上硅晶圆 | 发明专利 | 实质审查的生效、发明专利申请公布、公布 | CN202611359045.7 | 2026-09-03 | CN122872096A | 2026-10-02 | 蒋治国、兰洵、岳中、李娟 |
| 2 | 晶圆及其键合方法、以及键合设备 | 发明专利 | CN202611359102.1 | 2026-09-03 | CN122872097A | 2026-10-02 | 蒋治国、兰洵、岳中、李娟 | |
| 3 | 离子注入方法、绝缘体上硅衬底及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、发明专利申请公布、公布 | CN202611359012.2 | 2026-09-03 | CN122872095A | 2026-10-02 | 蒋治国、兰洵、岳中、李娟 |
| 4 | 一种键合晶圆的分离装置、方法以及绝缘体上硅衬底 | 发明专利 | 发明专利申请公布、公布 | CN202611359822.8 | 2026-09-03 | CN122892481A | 2026-10-09 | 蒋治国、兰洵、岳中、李娟 |
| 5 | 含硅基薄膜层的衬底的制备方法、衬底及射频前端芯片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611235694.6 | 2026-08-14 | CN122803599A | 2026-09-22 | 车宇航、王文娟、张博、兰洵 |
| 6 | 抛光垫的处理方法、装置及抛光设备 | 发明专利 | 发明专利申请公布、公布 | CN202611233998.9 | 2026-08-14 | CN122938730A | 2026-10-20 | 张申申 |
| 7 | 半导体晶圆及其制备方法、射频前端芯片 | 发明专利 | 发明专利权授予、授权、实质审查的生效、公布 | CN202611235696.5 | 2026-08-14 | CN122784317B | 2026-10-23 | 张博、王文娟、车宇航、刘贵浩、兰洵 |
| 8 | 电荷捕获层的制备方法、衬底结构及射频器件 | 发明专利 | 发明专利申请公布、公布 | CN202611235673.4 | 2026-08-14 | CN122971185A | 2026-10-23 | 刘贵浩、王文娟、车宇航、张博、兰洵 |
| 9 | 一种COP缺陷检测方法及装置 | 发明专利 | 发明专利申请公布、公布 | CN202611188680.3 | 2026-08-06 | CN122922097A | 2026-10-16 | 万珣、苗小明、张泽坤 |
| 10 | 硅片线切割质量评估方法、装置、电子设备和可读存储介质 | 发明专利 | CN202611155807.1 | 2026-07-31 | CN122866151A | 2026-10-02 | 任林 | |
| 11 | 晶圆容器条码识别方法、系统、设备及计算机存储介质 | 发明专利 | 发明专利申请公布、公布 | CN202611145363.3 | 2026-07-30 | CN122947789A | 2026-10-20 | 叶力文 |
| 12 | 定盘、双面研磨设备和研磨方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611057074.8 | 2026-07-16 | CN122683611A | 2026-09-04 | 秦文龙 |
| 13 | 半导体基底的处理方法及处理装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610914299.4 | 2026-06-24 | CN122679840A | 2026-09-01 | 张申申 |
| 14 | 一种单晶生长设备的控制方法及装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610916445.7 | 2026-06-24 | CN122687338A | 2026-09-04 | 潘浩、张鹏举 |
| 15 | 分区冷却系统、冷却控制方法、晶棒、晶圆及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610919944.1 | 2026-06-24 | CN122687334A | 2026-09-04 | 潘浩、崔源进、张鹏举 |
| 16 | 对齐度测量装置和对齐度测量方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610826726.3 | 2026-06-09 | CN122505132A | 2026-08-04 | 陈文洁 |
| 17 | 一种硅片分离设备及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610828346.3 | 2026-06-09 | CN122747192A | 2026-09-15 | 白皓、范明亮、张伟 |
| 18 | 抛光垫清洁装置及方法、抛光设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610815519.8 | 2026-06-08 | CN122559886A | 2026-08-14 | 马科宁 |
| 19 | 基于多智能体的工艺监控系统、方法及晶圆制造系统 | 发明专利 | 公布 | CN202610816825.3 | 2026-06-08 | CN122732505A | 2026-09-11 | 袁力军、兰洵、张婉婉、李安杰、李彤 |
| 20 | 一种热补偿方法和热补偿装置 | 发明专利 | 公布 | CN202610810772.4 | 2026-06-05 | CN122425806A | 2026-07-21 | 齐凌博、王刚、吴志刚 |
| 21 | 一种晶圆表面缺陷检测方法及装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610807347.X | 2026-06-05 | CN122602836A | 2026-08-18 | 仝临杰、郭宏雁、马强强 |
| 22 | 一种防溅射装置、杯体组件以及单片清洗机 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610810286.2 | 2026-06-05 | CN122679843A | 2026-09-01 | 左斌、夏新超、陈海龙、王颖、张树星 |
| 23 | 晶圆全生命周期追踪管理系统及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610809606.2 | 2026-06-05 | CN122693691A | 2026-09-04 | 张进宝 |
| 24 | 一种控制晶圆生产的方法、装置、设备及介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610810841.1 | 2026-06-05 | CN122719391A | 2026-09-08 | 郑文腾 |
| 25 | 包装袋的真空检测系统、方法、装置、设备及存储介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610809800.0 | 2026-06-05 | CN122704550A | 2026-09-08 | 王奕杰 |
| 26 | 晶圆缺陷检测模型的训练方法、装置、电子设备及介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610810141.2 | 2026-06-05 | CN122737651A | 2026-09-11 | 张申申 |
| 27 | 一种探头保护装置及探头保护方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610808477.5 | 2026-06-05 | CN122723488A | 2026-09-11 | 胡一洲 |
| 28 | 硅片切割质量判定方法、装置、电子设备和可读存储介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610806949.3 | 2026-06-05 | CN122723877A | 2026-09-11 | 李乾康 |
| 29 | 预测硅片时间依赖性雾的方法、装置及存储介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610810722.6 | 2026-06-05 | CN122766315A | 2026-09-15 | 齐凌博 |
| 30 | 硅片盒外观检测方法和检测系统 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610808410.1 | 2026-06-05 | CN122780161A | 2026-09-18 | 王奕杰、韩嘉豪、吕天爽 |
| 31 | 抛光方法、抛光系统及硅片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610802574.3 | 2026-06-04 | CN122606459A | 2026-08-21 | 张越、刘还平、宋国岗、方圭哲 |
| 32 | 量测硅片电阻率的方法及硅片电阻率的量测装置 | 发明专利 | 公布 | CN202610798735.6 | 2026-06-04 | CN122719422A | 2026-09-08 | 车宇航、兰洵 |
| 33 | 一种硅晶片的制备方法及硅晶片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610792164.5 | 2026-06-03 | CN122766253A | 2026-09-15 | 蔡媛媛、申艳蕊 |
| 34 | 测量方法及装置、监测方法及装置、单晶晶棒 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610734168.8 | 2026-05-26 | CN122670797A | 2026-09-01 | 赵亮 |
| 35 | 一种用于制备硅片样品的自动化系统、方法及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610678751.1 | 2026-05-18 | CN122612306A | 2026-08-21 | 史铁柱、庞鲁、王龙 |
| 36 | 晶圆放置监测装置、方法、设备及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610674767.5 | 2026-05-15 | CN122514215A | 2026-08-04 | 张申申 |
| 37 | 晶圆边缘磨轮的设计参数确定方法、设备及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610674985.9 | 2026-05-15 | CN122571809A | 2026-08-14 | 袁力军、李彤、兰洵、张婉婉、李安杰 |
| 38 | 硅片边缘倒角的诊断方法、装置、模型训练方法及介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610675081.8 | 2026-05-15 | CN122597286A | 2026-08-18 | 张申申 |
| 39 | 缺陷晶圆的识别方法、识别装置、设备及介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610673509.5 | 2026-05-15 | CN122719389A | 2026-09-08 | 马强强、李康康 |
| 40 | 外延片的制备方法、外延片及外延生长设备 | 发明专利 | 公布 | CN202610661915.X | 2026-05-14 | CN122484906A | 2026-07-31 | 卢旭辉、贾帅 |
| 41 | 切割后的晶圆的处理方法、处理装置、设备及介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610666255.4 | 2026-05-14 | CN122712216A | 2026-09-08 | 张宁轩、黄兆皓 |
| 42 | 外延片的制备方法、外延片及外延生长设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610657450.0 | 2026-05-13 | CN122503940A | 2026-08-04 | 杨晨辉、贾帅、卢旭辉 |
| 43 | 一种外延片的制备方法和外延片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610607515.0 | 2026-05-06 | CN122555392A | 2026-08-11 | 何斌斌、金柱炫、王迪 |
| 44 | 采样设备、监测系统及挥发性有机物的采样方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610490677.0 | 2026-04-14 | CN122329768A | 2026-07-03 | 卓倩倩、齐凌博 |
| 45 | 晶圆缺陷检测方法、装置及计算设备 | 发明专利 | 公布 | CN202610491002.8 | 2026-04-14 | CN122438553A | 2026-07-21 | 王昭、庞鲁 |
| 46 | 用于调整外延反应腔内基座位置的方法及控制设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610461476.8 | 2026-04-09 | CN122406367A | 2026-07-17 | 口彦龙、贾帅、杨晨辉、刘世雄 |
| 47 | 外延片生长方法、外延片生长设备以及外延片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610384651.8 | 2026-03-26 | CN122169208A | 2026-06-09 | 梁鹏欢、张海洋 |
| 48 | 外延片生产方法以及外延片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610384646.7 | 2026-03-26 | CN122169207A | 2026-06-09 | 梁鹏欢 |
| 49 | 外延片的制备方法、外延片及外延生长设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610384533.7 | 2026-03-26 | CN122304021A | 2026-06-30 | 梁鹏欢、张海洋 |
| 50 | 外延过程中改善硅片的颗粒污染的方法、系统及外延片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610384864.0 | 2026-03-26 | CN122304024A | 2026-06-30 | 王娜、金柱炫、俎世琦 |
更新时间:2026-10-26
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