中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能

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2026年4月，某高阶设备生产线上，国产EUV原型机正式投用试跑。这台机器每转动一个刻度，就能打破一项工艺封锁，每小时可稳定影印超过250块晶圆。它的成功试跑，标志着全球光刻领域旧有的单一秩序被彻底打破，中国在高端光刻设备领域实现了关键突破。

回顾过去二十个月的工业发展历程，中国光刻业经历了一场从绝望到崛起的巨变。这场巨变的起点，是2024年初秋的一次行业探讨，核心人物是老知识分子朱士尧。

朱士尧曾执掌学术教研席位，还担任过终端企业的智囊高参，他的观点在行业内极具影响力。在黄浦江畔的一次行业交流中，他直接抛出了一个让所有中国科技圈心寒的判断，极紫外（EUV）设备不可能靠单一国家独自做成，这是无法改变的事实。

他给出的理由很明确，EUV设备结构极其复杂，包含十余万颗精密零部件，背后需要全球上千家大厂和小型手工作坊协同配合，这是西方用半个世纪构建的多边协作体系，缺一不可。

在这种高度精密的全球协作格局下，任何国家单枪匹马，都无法突破技术难关，尤其是在纳米级的精度控制上，更是难如登天。

这番话彻底打破了国人对自主研发EUV的幻想。两天后朱士尧再次发布视频，进一步强调自己的观点，他并非故意唱衰，而是希望大家认清全球技术封锁的现实，不要盲目硬冲，要敬畏行业规律。

但他把西方构建的全球协作体系，当成了永恒不变的真理。当时中国已经被西方切断了EUV相关技术和设备的供应，相当于被人摁进深海断了呼吸，根本没有资格遵循旧有的协作规则。

在这种绝境下，唯一的出路就是打破旧规则，建立自己的技术体系，靠自己的力量闯出一条生路。当旧有的协作变成束缚发展的枷锁，所谓的市场逻辑和行业规则，都必须为生存让步。

面对技术封锁和行业内的悲观论调，中国工业领域的决策者没有退缩，而是选择直接加码投入，用巨额资金推动EUV自主研发。他们的态度很明确，这件事没有退路，绕路走只会死得更快。

工信部直接出台政策，投入超过万亿资金，全部精准投向EUV研发及相关产业链，力度之大令人震惊。同时，相关部门发布了65纳米相关技术新规，明确了自主研发的核心方向，这是一场不计退路的技术博弈，没有任何回转的可能。

与此同时，全球EUV巨头阿斯麦（ASML）的处境也十分微妙。2025年，在全球技术封锁的大背景下，阿斯麦依然依靠此前在中国市场布局的渠道，获得了巨额营收，其中国市场营收占比接近三分之一，高达数百亿。

中国此时大量采购阿斯麦的光具件并非依赖其技术，而是一种战略缓冲。通过买断可到货的光具件，为国产EUV研发争取时间，给尚在起步阶段的国产设备团队，创造更多的研发和调试空间。

当时，西方对14纳米相关技术的封锁已经逐步收紧，所有人都清楚，再过一年，阿斯麦在中国市场的营收将会大幅下滑，甚至几乎归零。

阿斯麦在封锁前拼命抢占中国市场、赚取利润，而中国则趁机加快自主研发的步伐，夯实自身基础。2025年初，第一台能稳定运行的28纳米浸没式光刻设备，在浦江相关生产线上落地，这台设备的套刻精度双向误差不到2纳米，直接交付给国内最大的芯片制造企业使用。

这种从底层做起的技术积累，为后续EUV研发奠定了坚实基础，无论阿斯麦后续如何收紧封锁，中国都有了自己的底牌。

2025年底，中国EUV研发迎来重大突破，采用了一套完全不同于传统技术的路线。研发团队结合哈尔滨相关技术基础和核心研发团队的力量，将LPP光源与更高效的放电源技术相结合，跳出了西方设定的技术框架，建立了一套自主独立的光源体系。

这一突破，让中国EUV自主化率超过了85%，真正实现了从无到有、从跟随到自主的跨越。

最能体现这种突破的，是一些看似不起眼的核心零部件。2026年一季度，国产光刻设备所需的敏感涂胶装载玻璃瓶，实现了完全自主生产。在此之前，这类不起眼的零部件，一直被国外企业垄断，严格控制进出口配额，卡住了中国光刻设备研发的脖子。

随着这类核心零部件实现自主化，28纳米相关材料的良品率大幅提升，达到了行业领先水平。这一变化表明，西方在光刻领域布下的技术封锁，已经彻底失效。中国彻底摆脱了对国外零部件的依赖，真正走出了一条自主可控的发展道路。

曾经，很多学者和资本从业者，用传统的学术思维和贸易逻辑，去评判高端技术的发展，认为中国不可能突破EUV技术封锁。但事实证明，在技术博弈的残酷现实中，这些传统思维早已过时。技术竞争的本质是生存竞争，当被逼到绝境时，唯有打破规则、自主创新，才能活下去。

从2024年被否定，到2026年国产EUV原型机试跑成功，短短两年时间，中国光刻业完成了从绝望到崛起的蜕变。如今，中国和西方在光刻领域，已经形成了两条平行的技术路线，各自运行、互不依赖，曾经“中国造不出EUV”的断言，彻底沦为了行业笑话，成为中国工业崛起的注脚。

中国打破了西方在光刻领域的垄断，并非依靠什么神奇的技术魔法，核心只是敢于放弃西方设定的标准，坚持走自主研发的道路。当两条技术路线并行发展，全球光刻领域的单一标准已经不复存在，未来，谁能掌握核心技术、站稳市场，谁就能在行业竞争中占据主动。

目前，国产EUV还处于试跑阶段，后续还需要不断优化和完善，才能实现规模化生产，真正替代进口设备。但这一突破已经意义重大，它打破了西方的技术垄断，为中国芯片产业的自主发展，扫清了关键障碍，也为全球光刻领域的发展，提供了新的思路和方向。

未来，随着国产EUV技术的不断成熟，中国芯片产业的竞争力将会大幅提升，摆脱对国外高端芯片和设备的依赖。同时，中国的自主技术体系，也可能成为全球光刻领域的新标杆，推动行业进入一个多元化发展的新时代。

这场技术突围的背后，是无数研发人员的默默付出，是国家的大力支持，更是中国工业不服输、不放弃的精神体现。

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