8月5日消息，璞璘科技 PRINANO 宣布其在8月1日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻 (NIL) 系统 PL-SR。

如果把中国半导体比作一个正在冲刺的运动员，那它的腿是设计（华为海思），它的肺是封测（长电、通富），它的肌肉是晶圆厂（中芯、华虹）。

但它的脚后跟——那个致命弱点——是光刻环节。

这其实，是现实：

一台ASML的EUV光刻机，售价超1.5亿欧元，全球仅此一家，供不应求。

而我们最先进的量产设备，是上海微电子的90nm DUV——相当于别人在用iPhone 16，我

还在用iPhone 10跑原神。

还有：机器不够，材料更缺。

ArF光刻胶，支撑7–28nm工艺的生命线，国产化率不足5%。

EUV级？几乎为零。

一瓶不到500ml的胶——比黄金还金贵。

国产替代空间巨大，弹性可期

这几年，国内各种支持力度是很大的

• 大基金三期砸下3440亿元，关键词就两个字：设备 & 材料。
• 《科技攻关》三年目标写上：“28nm光刻机必须量产。”
• 上海搞“三位一体”：材料—设备—制造闭环，打造“国产版台积电+信越+ASML”梦；

同时压缩周期，光刻胶验证周期从3年压缩到1–2年。

以前一款胶进厂，客户要测1000小时，跑3轮良率，现在先用着，边用边验。

这不是技术冒进，是紧迫下的倒逼。

财务数据开始悄悄兑现

上面更多就是逻辑，或者说故事，但资本市场只信一件事：业绩。

看看这两家，已经从“概念股”走向“产品公司”：

• 彤程新材：2024年，I线胶销量同比+61%，KrF胶+69%。关键是——新品排队进产线。这说明客户开始愿意给机会，不是“试用”，是“真用”。
• 晶瑞电材：i线、KrF持续放量，ArF已小批量出货，多款产品在客户产线“跑验证”——别小看“跑验证”，这是从实验室走向量产的“临门一脚”。

这不是PPT上的“突破”，是真实需求在释放。国产替或许已经迈向“客户驱动”。

回到投资上

光刻胶：弹性最大，但风险也最高

当前高端胶自给率 <5%，目标要突破 >70% —— 这十倍空间。

但光刻胶是“配方+工艺+客户绑定”三位一体，验证壁垒极高。

可以关注2类：

产品突破派：南大光电（ArF已量产）、彤程新材（KrF市占率第一）、上海新阳（走差异化，赌28nm以下非EUV路线）。

上游“卖铲人”：圣泉集团（光刻树脂）、强力新材（光引发剂），毛利率45%+。

光刻机：整机太远，看“零件”才是现实主义

ASML一台EUV，10万+零部件，来自全球5000家供应商。

国产整机？目前市占率几乎为零。别说替代，连“对标”都像在演科幻片。

但注意：70%的价值在零部件，而这部分，国产已有切口。

光学系统（30%成本）：茂莱光学（物镜镜头）、福晶科技（EUV用激光晶体）——中国在精密光学有积累，是突破口。

光源系统（20%）：英诺激光，搞准分子激光，虽未进ASML主链，但已在国产设备中替代进口。

双工件台（15%）：华卓精科，国内唯一实现纳米级工件台量产的企业——这玩意要每秒移动2米、定位精度1纳米，比钟表匠还精细。

最后，大家一定要知道，市场只认三件事：良率、交期、价格。

整个产业链上的公司名单汇总如下，方便大家查看。

特别声明：以上内容绝不构成任何投资建议、引导或承诺，仅供学术研讨。

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