文 犽犽乐

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“中国的国产光刻机只能生产65nm工艺的芯片，相比国际巨头ASML落后足足有大约20年！”

很难想象一边是国内的遥遥领先，一边却又是落后足足20年的最新评估，这其中的差距未免有些太过巨大了一些！

那高盛的这一最新评估，究竟是怎么预测出来的呢？我国又是否真的落后国外20年？

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高盛最新发布的评估

就在我国举行阅兵的前一天，总部位于美国纽约的著名投资银行高盛，突然对外发布了一篇唱衰我国的半导体芯片领域评估报告。

其抱有怎样的心思暂且不说，毕竟单单是看到高盛总结出来的结论，就足以让人难以去思考其他东西了。

高盛在这一评估报告中提出，哪怕是中芯国际已经可以生产出7nm工艺的芯片了，其真实的能力也依旧充满了不确定性的。

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因为在高盛的眼中，中芯国际能够生产出7nm工艺的芯片，完全就是依靠和利用了ASML比较老旧的DUV深紫外光刻机。

似乎也只有这样，中芯国际生产出的7nm芯片，才能得到合理的解释！

需要注意的是，高盛还非常详细的指出，现如今的ASML已经发展了两代EUV极紫外光刻机，而我国却连制造这种设备的能力都不具备，可见两者的差距究竟有多么的大。

EUV极紫外光刻机

凭借着这一点，高盛也是单方面的判断，中国的国产光刻机勉强只能生产大约65nm工艺的芯片，相较下来足足与国际巨头ASML有着20年的差距！

令人好奇的是，高盛口中这整整20年的差距，究竟是如何得出呢？

高盛对此给出的理由是，ASML光刻机就是用了长达20年的时间，才从65nm发展到了3nm及以下，甚至还不惜为此投出了约400亿美元的相关费用。

那基于这样的事实，中国的国产光刻机要想从65nm发展到了3nm及以下，理应也需要同样或者是更久的时间。

光刻机

就部分事实情况来看，高盛之所以会做出这样的判断，也并非是没有任何理由的，就拿这些年我国在半导体芯片领域的努力来说，即便是不停的追赶也还是同国外有着不小的差距。

甚至毫不夸张的说，相较于其他被卡脖子的科技产业，半导体芯片领域绝对是被卡的最严重的那一个。

而反观ASML最新的动向，其研发出的High-NA EUV光刻机已经开始交付，台积电以及三星等都开始了接收。

High-NA EUV光刻机

据悉High-NA EUV光刻机，几乎是当下第一昂贵的半导体制造设备，仅仅只是一台的价格就要超过4亿美元，足见造价究竟有多么的夸张。

但相对应的，High-NA EUV光刻机性能自然也是十分强悍的，可以轻松满足1.4nm以下的芯片制造工艺。

值得一提的是，凭借着自身这不可动摇的地位，ASML今年的财报也在不断升高，其最新公布的2025年第二季度的销售额，一度达到了77亿欧元，同比增长的幅度更是高达23.2%。

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那根据以上ASML的发展情况，国产光刻机的与其的差距不可谓不明显，而在这样的基础上，高盛还提到了当下全球产业链的复杂性以及高风险的地缘因素。

最终高盛经过综合判断得出，我国的国产光刻机，绝对不可能在短期内实现弯道超车，又或者是追上西方的先进水平！

那高盛的这一评估是否就是现实呢？我国同西方的差距真的就这么大？

高盛

只会适得其反的芯片出口禁令

在美国以各种借口威胁其他国家对华展开科技封锁以后，身为荷兰光刻机制造商的ASML自然也无法独善其身。

于是一项停止向中国出口高端型号光刻机的禁令，也是被定在了2024年1月开始生效。

但需要注意的是，在禁令生效之前ASML以及荷兰国内都存在着不小的反对声音，毕竟ASML可是持有着三款顶级浸润式深紫外光刻机对华出售的许可证的。

而美国的长臂管辖，无疑是极大的影响和干预了荷兰的战略自主。

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可就算ASML以及荷兰国内坚决反对，已经下定决心的美国也还是没有做出改变。

事实上美国对光刻机的对华出售，早在2019年的时候就存在着特殊的想法，当时还是特朗普这位美国总统的第一任期，便已经开始不断的推动荷兰政府禁止向中国销售阿斯麦的顶级极紫外光刻设备。

之后在拜登政府的继续推动下，所谓的光刻机的禁令也是正式生效。

拜登

但生效的禁令不仅仅只对我国造成了不小的冲击，就连ASML自身也受到了不小的反噬。

一直以来亚洲无疑都是阿斯麦公司最重要的市场，而其中我国市场更是ASML有史以来最大的客户。

单单是在2024年第三季度中，中国市场为ASML带来的营业额，就要足足占据着其总营业额的一半，哪怕其中都是一些比较老的信号，也足以证明中国市场对于ASML到底有多么重要。

皮特·温宁克

不过营业额的变化并不是ASML最担心的地方，其中就以ASML前首席执行官皮特·温宁克离任前做出的警告来说。

他敏锐的认为所谓的光刻机禁令，只会促使中国在高端芯片制造设备领域中，成功研发出自己的技术。

“你越给他们施加压力，他们越有可能加倍努力”、“如果他们不能得到这些机器，他们就会自己研发这些机器。这需要时间，但最终他们会达到目标”

这样类似的警告言论，都是皮特·温宁克对光刻机禁令的评价。

克里斯托夫·富凯

而相同的言论，到了ASML现任首席执行官克里斯托夫·富凯的口中，似乎也未能出现明显的变化。

其在今年6月份时的一则报道中提到，美国出台的相关禁令最终的效果注定只会适得其反，毕竟相较于去不断的打压对手，还不如将注意力更好的放在自我创新上。

在报道的最后，克里斯托夫·富凯一再强调称，目前中国已经开始自主研发国产光刻设备，这本就意味着中国正在加倍努力地取得成功。

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结语

相对于高盛单方面做出的评估，ASML两任首席执行官提出忠告显然更加的贴合现实，因为只有他们似乎还记得，中国究竟是怎么从一个近乎全面落后的国家，一步步成为现在的科技强国的。

而在其他领域中，我国能在短短几年内走完他国十几年的路，那半导体芯片领域又怎么会成为例外呢？

如果美西方国家认为自己依旧领先，那他们就这么认为就好了，毕竟我国只会用实际行动去证明一切。

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