上海华力申请浸润式光刻机CTC晶圆自动更换方法和系统专利，实现CTC晶圆自动更换

金融界2025年7月5日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“浸润式光刻机CTC晶圆自动更换方法和系统”的专利，公开号CN120261365A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种浸润式光刻机CTC晶圆自动更换方法，包括：提供装有新CTC晶圆的FOUP，通过EAP进行下货作业。track机台对新CTC晶圆进行HMDS预处理作业。新CTC晶圆从track机台传送到浸润式光刻机并通过第一指令进行CTC晶圆自动更换以将浸润光刻机中的旧CTC晶圆替换为新CTC晶圆。track机台进行传送作业将旧CTC晶圆传回到FOUP内。由EAP完成出货作业。本发明还公开了一种浸润式光刻机CTC晶圆自动更换系统。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2078次，专利信息2303条，此外企业还拥有行政许可343个。

本文源自金融界