公知叫嚣：中国永远造不出来光刻机！但我们2024年就造出来了！

去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中表示：中国永远造不出来光刻机，美国都造不出来，中国肯定也造不出来，世界上没有一个国家能造出来。

所以我有一个疑问，他这是把德国和荷兰开除人籍了？

有一说一，光刻机这玩意儿其实不难，而且我国的光刻机产业更不是从零起步。事实上，我们早就已经开始自产成熟制程的光刻机了。

早在上世纪60年代，中国已研制出接触式光刻机，1985年研制的分步光刻机与国外差距仅7年。只不过当时“造不如买”的思潮导致一直没有发展。一直到2002年上海微电子成立，国家将光刻机列为重大专项，才重启追赶之路。2009年，我国再次生产出了先进光刻机。紧接着我国又完成了三次关键性技术突破。

首先是封装光刻机反超实现反超，占据了全球80%封装市场，迫使国际光刻机巨头降价；然后是2024年DUV光刻机突破，我国成功实现了65nm干式DUV光刻机国产化，套刻精度达8nm。

最后则是最近一段时间，哈工大借助中科院开发的高功率极紫外光源，攻克了激光干涉仪技术，为EUV光刻机奠定基础。现在，我国的光刻机产业正在形成一套完整的生态链：

上游企业包括科益虹源、福晶科技、华特气体，分别实现了光源，激光晶体，以及光刻气体这些核心材料的国产化。

中游企业由上海微电子，进行整机集成，目前芯源微涂胶显影设备进入中芯国际生产线。

在下游方面，我国的中芯国际SAQP技术实现DUV光刻机生产10nm芯片，验证了国产设备的可靠性。

事实上目前我国在光刻机三大核心系统方面，已经完全实现了自主可控。我们自己的光刻机是可以满足中国广大的市场需求的。

唯一的问题就是在最顶尖的顶级光刻机上，我国还没能完全攻关下来。不过这也形成了一个国际死局：目前全世界只有中国还在进行顶尖高科技研发工作，也就意味着只有中国需要最顶尖的芯片和光刻机，其他国家基本上都不需要。

而西方国家对中国进行顶尖光刻机封锁，就意味着他们专门出售给中国的顶尖芯片找不到替代市场，反正现在大家都难受。

当然，中国肯定不可能任由这件事情一直发展下去，所以我国另辟蹊径在追赶光刻机技术的同时，还探索了三条新的赛道。

第一条赛道是量子芯片技术，通过超导电路、离子阱或光子等物理载体实现量子态操控。这是一种全新的芯片，我国的“祖冲之三号”量子芯片的运算能力极高，当然受限于技术原因目前全世界都只有那么一个。

然后是芯粒技术，该技术是通过将不同工艺、功能的芯片模块，集成于同一封装，突破传统单芯片实现芯粒间的互联。例如，北极雄芯通过异构集成开发车载芯粒系统，降低对单一先进工艺的依赖。也算是一种用数量打破质量的手段。

最后则是异构计算技术，通过整合不同架构的计算单元协同工作，实现算力与能效的平衡。我国“天河”系列超算采用的就是这种CPU+加速器架构。

这样我国就实现了在无法自主生产最顶尖芯片的情况下，仍旧可以完成最先进的高科技实验的目的了。虽然性价比较低，但是我们都研究最先进科技了，还担心性价比问题吗？那都是后面要考虑的事情。

现在顶级光刻机对我国来说不过是锦上添花的东西罢了，我们肯定会继续研究，但是在成熟制程光刻机出现后，需求也就没有那么迫切了。

反正截至目前，我还真没听说过有哪个技术能永远卡住中国人的脖子。最多就是卡一时罢了。