力晶积成申请光阻管理系统专利，控制模块依据获取信息反馈或调整相关参数

金融界2025年7月4日消息，国家知识产权局信息显示，力晶积成电子制造股份有限公司申请一项名为“光阻管理系统”的专利，公开号CN120255427A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，一种光阻管理系统，其包括控制模块、光阻使用模块、以及光阻库存模块。控制模块信号连接在光阻使用模块与光阻库存模块。光阻管理系统存有对应的物料信息、机台制程工艺参数、机台周期保养参数和/或产品测量信息。控制模块依据从光阻使用模块及光阻库存模块所获取的信息反馈或调整物料信息、机台制程工艺参数、机台周期保养参数和/或产品测量信息。

本文源自金融界