屹唐半导体等取得等离子处理装置多头处理腔室压力控制系统专利

金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，北京屹唐半导体科技股份有限公司、玛特森技术公司取得一项名为“等离子处理装置的多头处理腔室的压力控制系统”的专利，授权公告号CN114975054B，申请日期为2021年07月。

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