英诺玛科21申请通过全息图使用高波长辐射进行体积打印方法专利，以低成本、低环境影响的方式制造高性能组件

金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，英诺玛科21有限责任公司申请一项名为“通过全息图使用高波长辐射进行体积打印的方法”的专利，公开号CN120076886A，申请日期为2023年09月。

专利摘要显示，本发明涉及通过全息图进行体积增材制造(3D打印)，以低成本、低环境影响的方式，用各种不同的材料(包括但不限于金属材料、陶瓷材料、聚合物材料和/或其组合)制造具有高机械性能的高性能组件。本发明还涉及所使用的设备和打印的组件。

本文源自金融界