EUV光刻机3大核心：2大来自德国，1大来自美国，ASML负责组装

很多人一提起EUV光刻机，就觉得ASML牛得不行，全球独一家，机器卖几亿欧元还供不应求。其实ASML自己也承认，一台机器10万多个零件，他们真正原创的核心技术不到10%，剩下全是全球供应链攒出来的。

说白了，ASML最厉害的地方不是自己全包，而是把最难的三块技术死死捏在手里，其他的全部外包整合。

这三块最难的技术公认就是光源、光学系统、精密双工件台系统。其中光源和光学系统技术门槛最高，价值量也最大。

光源占整机15%-20%，光学系统占24%-30%，双工件台占12%左右。ASML把这两块最硬的骨头分别交给美国和德国的企业，自己负责把所有零件拼成一台能24小时不停跑的机器。

先说光源，这是EUV最烧钱也最难的部分。EUV光是13.5nm波长，普通透镜完全吸收，根本透不过，只能用激光打锡产生等离子体发光。整个过程是：每秒喷出5万滴直径30微米的锡滴，一束预脉冲激光先把锡滴拍成饼状，再用主脉冲高能CO2激光轰上去，锡瞬间变成高温等离子体，辐射出EUV光。

这套系统里，美国公司Cymer负责锡滴发生器、收集器、碎片控制这些核心部件。2013年ASML直接把Cymer整家公司收购了，花了25亿美元，彻底把锡滴技术锁进自己口袋。现在Cymer已经完全并入ASML，算美国那一大块核心。

而轰锡滴的主脉冲激光，功率要达到几十千瓦，目前只有德国通快TRUMPF能做。通快是全球工业激光老大，他们的CO2激光系统专门为ASML定制，一台EUV光刻机里光激光器就占几千万欧元。通快跟ASML签了长期独供协议，等于德国拿下了光源里最贵的那一半。

光学系统更是清一色德国血统。EUV光在真空里走，每面镜子都会吸收6%-8%的能量，一台机要11面镜子，加起来光能剩不到1%。所以每面镜子反射率必须做到70%左右。全球只有德国蔡司Zeiss能做这种钼/硅多层膜镜子，表面粗糙度控制在0.1纳米以内，相当于把北京大小的地表磨平到1厘米误差。

蔡司从1990年代就开始跟ASML一起搞EUV光学，2012年才交付第一套量产镜组。ASML为了绑死蔡司，2016年又掏10亿欧元买了蔡司半导体光学子公司24.9%的股份，等于把全球最顶尖的光学公司也半捆绑了。现在High-NA EUV镜子直径翻倍，重量上吨，还是只有蔡司能做。

第三大块是双工件台系统，也就是晶圆台和掩模台，要在真空里6倍音速移动，定位精度还得保持在0.5纳米以下。这块机械精度德国供应商占了大头，很多关键马达、传感器、气浮轴承都来自德国企业，但系统集成、软件控制、误差补偿算法全是ASML自己写的，也算半个德国半个荷兰。

ASML从2000年代浸没式光刻机那会儿就摸准了路子：不跟尼康佳能硬刚研发，而是死抓客户需求，然后全球找最牛的供应商合作。2003年台积电提出用水做浸没介质，尼康佳能都觉得不靠谱，ASML直接all in，2006年就抢到7成市场，把日系两家彻底干趴。

吃到甜头后，ASML在EUV上玩得更绝。2010年他们搞了个“客户共同投资计划”，让英特尔、三星、台积电掏50多亿欧元入股，换来优先提货权。这笔钱正好拿去收购Cymer、投资蔡司、绑定通快，把三块最难的技术全锁死。

到现在，全球装机的EUV光刻机超过200台，全是ASML一家产的。通快在德国和深圳扩厂，蔡司在奥伯科亨建新厂房，Cymer技术完全融进ASML圣迭戈研发中心。三家供应商跟ASML绑得死死的，谁也离不开谁。

一台EUV现在卖2亿欧元左右，High-NA版本直接4亿欧元起步。光是光源功率从250W提到500W，再到未来的1kW，每提升一点都要通快和蔡司一起死磕好几年。ASML自己只管把三家技术拼起来，再加上自己最牛的软件和计量系统，就成了全球芯片厂离不开的卡脖子机器。

很多人说给ASML全套图纸别人也造不出，不是图纸有多复杂，而是这三家供应商根本不卖给别人。蔡司的镜子只给ASML，通快的激光也只给ASML，Cymer早被收购了。想复制？先把这三家再造一遍再说。

现在台积电、三星、英特尔都在抢High-NA EUV，准备冲2nm、1.4nm节点。ASML明年开始量产交付，第一批机器还是给老客户。整个生态已经滚了20年，短期内没人撼得动。

说到底，ASML不是传统意义上的制造企业，更像芯片行业的“链主”，把美国、德国最顶尖的技术攥在手里，再用荷兰人的整合能力，变成一台台印钞机。

EUV光刻机这玩意儿，表面看是荷兰货，其实是美德荷三家联合起来，卡住了全球最先进制程的脖子。