小瞧中国？荷兰光刻机巨头放言：他们不可能独立掌握顶级技术

2020年，维尼克在一次行业峰会上谈到中国半导体产业的潜力，称“中国现在很难独立掌握顶级光刻技术，单靠一国之力几乎不可能”。

他指出，阿斯麦的EUV光刻机依赖全球供应链，整合了德国、日本、美国等国家的尖端技术，中国短期内难以复制这一复杂体系。

这句话被媒体放大，标题耸动，迅速传到中国，引发强烈反响。

光刻机是芯片制造的核心设备，EUV光刻机更是先进制程的基石。阿斯麦的EUV技术历经20年研发，投入超过60亿欧元，涉及数千项专利。

设备的激光系统由美国Cymer提供，镜头由德国蔡司制造，机械臂来自日本，任何一个环节的缺失都会导致生产停滞。维尼克的判断，基于这一技术壁垒和中国当时的产业现状。

2020年，中国的半导体自给率仅为15.9%，光刻机几乎全部依赖进口，上海微电子装备公司的DUV光刻机仅能支持90纳米制程，与EUV的7纳米差距巨大。

但维尼克的言论忽略了中国市场的潜力和决心，他多次在内部会议上表示，中国拥有庞大的工程师队伍和举国体制的支持，长期来看不可小觑。但他的公开表态，被西方媒体解读为对中国技术的轻视，刺激了中国半导体行业的神经。

2020年，我国政府加大了对半导体产业的投入，预算从2019年的80亿美元激增至350亿美元，增长超过400%。全国高校增设了数百个微电子专业，每年培养数万名毕业生。华为、中芯国际等企业也加速了自主研发，试图绕过技术封锁。

维尼克的言论背后，是中美科技博弈的缩影。美国从2019年起对阿斯麦施压，禁止其向中国出口EUV光刻机，理由是其“军事用途”。荷兰政府迫于盟友压力，暂停了出口许可。

阿斯麦向全球出货31台EUV光刻机，无一台进入中国。维尼克对此颇为无奈，中国市场占公司收入的20%以上，2020年出货46台DUV光刻机，创下历史新高。

但美国的要求愈发严格，2022年10月，《芯片法案》禁止14纳米以下的DUV光刻机出口中国，进一步压缩了阿斯麦的销售空间。

2023年3月，荷兰政府宣布对DUV光刻机实施出口管制，直接冲击阿斯麦的中国业务。维尼克在公司内部会议上表示，管制将导致收入下滑，但公司必须遵守规则。

维尼克试图通过游说荷兰政府放宽限制，但收效甚微。他在一次采访中提到：“政治凌驾于商业之上，这是我们无法控制的。”与此同时，中国的半导体产业在封锁下加速自研，上海微电子的DUV光刻机于2023年实现28纳米制程的量产，标志着技术瓶颈的突破。

维尼克的断言，反映了西方对中国技术能力的偏见，但也低估了中国科研人员的韧性。中国并非没有短板，EUV光刻机的核心部件，如光刻胶、电子气体和掩膜板，仍高度依赖进口。但在成熟制程上的突破，已让西方感到压力。

2024年，华为发布的新款芯片，虽未达7纳米，但性能接近国际主流，显示出设计能力的提升。中芯国际的28纳米制程稳定量产，14纳米进入试产阶段，逐步缩小与国际巨头的差距。

2024年，地缘政治的紧张局势进一步升级。美国继续收紧对华出口管制，2024年3月，拜登政府修订了AI芯片和制造设备的出口规定，将管制范围扩大到DUV光刻机的维修服务。荷兰政府迫于压力，限制阿斯麦为中国客户提供技术支持。

中国的半导体产业在压力下展现出惊人的韧性，政府继续加大投入，半导体行业的研发经费超过400亿美元。上海微电子的DUV光刻机在28纳米制程上实现规模化应用，部分设备进入中芯国际的产线。

高校和科研机构培养了大量微电子人才，清华大学、北京大学等每年输出数千名毕业生，加入华为、长江存储等企业。2024年6月，深圳的一场科技展会上，国产光刻机吸引了众多目光，设备性能虽未达到EUV水平，但已能支持成熟制程的量产。

上海微电子的最新设备已能支持14纳米制程的试产，核心部件的国产化率显著提升。华为与中芯国际在芯片设计和制造上密切合作，试图打破技术壁垒。2025年5月，华为发布的一款新芯片，性能逼近10纳米制程，显示出中国在成熟制程上的竞争力。

2025年6月，中美关系依然紧张，中方重申“自主创新”的立场，美方则强调“国家安全”。中国的半导体产业虽未完全摆脱对西方的依赖，但自给率已从15.9%提升至2025年的25%。中芯国际的产线扩建，28纳米芯片广泛应用于汽车和家电领域，14纳米制程的试产为5G和AI设备提供了支持。

维尼克的断言，如今看来既是偏见，也是警醒。从90纳米到28纳米，中国用了十年；从28纳米到14纳米，时间更短。EUV光刻机的自主研发或许还需要数年，但每一步都在缩小差距。

参考资料

国产EUV光刻机有重大突破！|新浪网