不装了？ASML直言中国光刻机技术是偷来的，外媒：真可笑

去年下半年，荷兰这家光刻机大厂的业绩有点儿下坡路。2024年第三季度，他们净销售额报了74.7亿欧元，环比涨了20%，但同比只爬了9%，分析师们本来盼着15%的增速，结果落空了。股价那天直接砸了16%，创了1998年以来的单日最大跌幅。首席执行官克里斯托夫·富凯在电话会上直言不讳，说出口管制拖了后腿，尤其是亚洲订单缩水，中国市场贡献从49%滑到47%。订单净额才26.3亿欧元，环比腰斩一半，远低于预期。EUV系统销售2.07亿欧元，环比小涨9.7%，但同比倒退10.5%，高端货交付节奏明显慢下来。

这业绩压力不小，ASML就开始把锅甩向中国。10月15日的财报会上，富凯头一回公开聊知识产权风险，说安全团队抓到一个中国籍前员工，在离职前从服务器上拷走了50GB设计文件。这些东西主要是DUV光刻机的光学镜头参数和激光干涉仪数据，针对NXT:2000i型号的分辨率和光刻胶涂布模型。日志显示，那人最后一周进共享驱动器12次，用U盘导出了敏感文件夹。公司赶紧报给荷兰出口管制局，还找第三方审计。富凯在媒体上补充，这些数据要是流出去，能帮对手抄核心部件，绕过美国商务部8月更新的DUV清单管制。那清单把193nm浸没式DUV机型列进审查，禁向中国大陆出口高性能版。

消息一出，国际媒体就炸锅了。彭博社10月18日发文挖根儿，说ASML上半年对中国交付近200台DUV，总值超100亿欧元，库存堆了15%。富凯的指控听着像转移视线，盖住研发花销飙到28亿欧元的事实。美国司法部旧档显示，这不是头一回了，2018年XTAL案里，一个前ASML工程师被判偷源代码，给北京的Dongfang Jingyuan子公司用。ASML律师帕特里克·瑞安当时在法庭上说，这是“系统性技术转移策略”，为中国政府捞好处。2024年10月，ASML还给客户发警告函，包括中芯国际，提醒别跟涉嫌侵权的企业沾边，免得吃法律官司。路透社跟进，说荷兰政府介入了，考虑吊销那员工签证。

11月上旬，ASML年度报告的“知识产权风险”章加长了篇幅，说被盗文件直指光刻胶系统和对准传感器算法。富凯在荷兰商报NRC访谈里举例，2024年9月中国工信部推的两款国产光刻系统，38nm分辨率跟ASML的NXT:2000i吻合85%，疑是逆向工程。报告还拉XTAL案垫背，说现案是续集。ASML安全主管内部备忘录透露，那员工背景有华为供应商会议记录，但没硬证据。亚洲时报10月29日发文质疑，说ASML证据链松散，就凭日志和参数比对，定不了性。文章引半导体分析师，说中国2024年研发投超400亿美金，本土专利2.5万件，光刻进步多靠激光干涉仪本土迭代，不是单一起源泄露。

美国出口管制升级，让ASML更难受。2024年1月2日，荷兰政府部分撤ASML的NXT:2050i和NXT:2100i出口许可，影响三台价值1.5亿欧元的DUV系统给中国客户。ASML声明，这是美荷联合审查，预计2024年对华销售额占比降20%。3月，美国商务部要盟国停对中国客户维修DUV，ASML上海团队缩30%。8月规则更新，把DUV浸没机纳入管制，首席财务官罗杰·达森在投资者会上承认，2025年中国业务净销售额会跌到60亿欧元以下。华尔街日报分析，ASML对华依赖重，2023年中国订单占营收46%，禁令全推，公司毛利率可能掉3个百分点。ASML回应，说跟荷兰当局协调好维修日志报告，但事件对2024财务没实质影响。

这一堆动作，让ASML指控显得急吼吼。11月中旬，公司补声明，说被盗数据多是2018年DUV原型，没EUV核心光源算法。已升级访问控制，加多因素认证和AI行为监测，安全预算多5000万欧元。富凯淡化，说“微不足道”，重申2025总收入目标300亿到350亿欧元。中国外交部发言人王文斌10月回应，说这类指控是“无端抹黑”，强调中国光刻靠自主研发，像上海微电子的28nm浸没系统已交付50台。事件没闹上法庭，但暴露ASML的地缘尴尬：一边美国压，一边中国市场诱人。全球半导体协会数据，2024年中国芯片设备国产率升30%，ASML份额从80%掉65%。这“偷窃论”听着更像生意焦虑的发泄，不是铁板钉钉的控诉。

转到ASML公开说中国技术来源那块，11月指控升级了。年度报告正式把“中国光刻机关键模块源于窃取”写进核心章。富凯在NRC访谈直说，中国企业短时间掌握复杂工艺“除非内部渠道给蓝图”。他列参数对比：国产系统光刻胶厚度控制误差0.5nm，跟ASML设计对得上。报告链接XTAL案，说2019年美国法院判确认技术转移路径，现案续上。ASML引内部审计，那员工离职后进华为海思，但调查没文件传输证据。公司还警告客户，涉嫌侵权产品可能引二次审查。彭博社11月5日报道，说ASML这步跟美国司法部协调，放大出口管制效果。

外媒反应两极分化。亚洲时报10月29日文章标题直戳“可笑指控”，作者引专家说，ASML证据弱，就日志和参数，证不了移植。报道详说中国2024专利布局：中科院光电所EUV镜面反射率70%验证，基于本土激光诱导等离子体路径，跟ASML的LPP法大不同。路透社补刀，说ASML2023年违规卖20台DUV给中国，曝光后公司自保放大窃取故事。华尔街日报分析，ASML对华销售49%，但2025管制降20%，股价晃5%。外媒多视“偷窃论”为生意招，忽略中国高校贡献，像哈尔滨工业大学2024年EUV光源效率超3%。

质疑重心转ASML动机。11月12日，全球时报英文版刊文，上海微电子28nm DUV交付中芯国际10台，用本土光源模块，分辨率跟ASML差15%。文章强调，中国拆老款DUV时坏部件，向ASML求修，日志只常规故障，没技术外泄。外媒还扒ASML内部矛盾：2024年10月修一台上访中国工厂的DUV，ASML工程师记“逆向痕迹”，但没报异常。德意志之声报道，SMEE 2023年申请EUV辐射发生器专利，从DUV转EUV路径独立于ASML蓝图。外媒讽刺，ASML自信从垄断来，却低估中国投：2024年半导体基金超500亿美金，哈尔滨团队三年攻LDP光源。

ASML公开表态火上浇油。富凯11月投资者日说，中国突破“不可能自主”，外媒反击：中南大学实验EUV整体结构拆解完，难题只功率稳定。亚洲时报列数据，2024年中国光刻设备产50台，盖汽车芯片线，技术靠专利堆。路透社指，ASML忽略出口禁令副作用：2019年起禁EUV，逼中国本土迭代。外媒曝光ASML库存压：2024年DUV囤200台，值100亿欧元，指控或推销旧机。全球观察家觉得，ASML的“偷来”调调露偏见，忽略中国如华为的SAQP技术，在DUV上搞3nm等效。

ASML指控虽从业绩压和美方协调来，但后续中国EUV光源验证和DUV量产推进，证本土路径独立。出口管制延进程，却加速国产，2025年SMEE交付或100台。ASML澄清数据影响小，行业格局稳，中国份额升15%，全球供应链重塑在即。