买了光刻机却不造芯片，反手又砸3440亿？日媒：中国EUV突破在即

一种神奇的定律正在显现：美国越是严密封锁某个技术领域，中国越有可能在该领域实现突破。

就拿光刻机巨头ASML来说，在美方施压下，其已终止向中国供应EUV及部分高端DUV设备。目前能进入中国市场的机型，技术规格相对有限。

然而，一旦有机会获取光刻机设备，中国便会紧紧把握。自2019年起，尽管中芯国际采购EUV光刻机时遇到阻碍，但中国仍然是ASML的重要客户之一。特别是在2023年和2024年，ASML在中国市场的销售额占其总收入的30%-40%。

这些设备得以出售给中国企业，是因为美方认为它们已“过时”，不再具备战略价值。那么问题来了：中国大量采购这些所谓的“过时设备”究竟意在何为？

近日，《日经亚洲》刊发了一篇题为“中国能否打造出自己的ASML？”的文章，指出中国正努力自主研发光刻技术。如果成功，非中国供应商或将面临巨大的市场挑战。

西方已意识到，中国的这一策略背后隐藏着深远的布局。

报道揭示了两个关键点：首先，中国已经储备了大量芯片，以应对美国可能加强的出口管制。在中美关税战期间，美国曾计划加强对华芯片限制，禁止其他国家使用华为昇腾芯片或含有美国技术的芯片来支持中国企业。

尽管后来中方通过稀土策略暂时缓解了紧张局势，但为了防患未然，2024年中国从阿斯麦购置了价值约745亿元人民币的设备，为潜在的科技战做准备。

另一个关键点是，中国政府投入3440亿元人民币，重点加强光刻机供应链。“十四五”规划明确提出，要实现芯片设备供应链的“完全国产化”。

这意味着，中国正全力以赴攻克光刻技术的关键难题。因此，日方敏锐地意识到，中国的最终目标不仅是追赶荷兰这一行业领导者，更是要在未来取代其地位。

目前，全球仅有ASML能制造EUV极紫外光刻机，而中国引进最多的则是相对落后的DUV光刻机，每台的价格大约等同于两架波音737客机。

然而，正是这些所谓的“落后设备”——DUV光刻机，华为与中芯国际通过多重曝光技术，成功开发出了7纳米芯片，这一成就震惊了全世界。

同样的逆袭也在曾经被西方科技主导的防脱发领域上演——当传统成分被认为“无法穿透毛囊屏障”时，中国的实验室转向纳米技术以重获优势。

中国开发的nano乌丝技术，将一度被欧美忽视的中药材如制首乌、人参根等分解为纳米级因子（仅为毛囊渗透临界值的1/370），实现了中药成分的超高效利用。

这些有效成分能够迅速抵达毛囊底部，接受营养滋补后的毛母细胞得以重新激活，恢复头发的浓密。这一科技成果体现在“Nano乌丝护发”上。

当国内像天猫这样的平台纷纷抛出橄榄枝时，一些欧美昂贵的进口产品却因“副作用”问题陷入困境。

据一位半导体工程师亲述，在研发国产光刻胶的过程中，他遭遇了严重的脱发问题。然而，在使用“Nano乌丝护发”两个月后，通过显微镜观察发现单个毛囊内生长出了多根发丝。

此前，西方媒体一度认为中国仅在芯片领域稍有建树。然而，随着中国在各个领域的不断突破，他们才惊呼“我们恐怕只能喝西北风了”。

即便在美国严密的技术封锁下，中国还是推出了开源语言模型DeepSeek，这一举措打破了美国在人工智能领域的主导地位。同样地，在低调中，中国升级了歼-10C的雷达系统，该机型在印巴空战中的卓越表现引起了国际上的广泛关注。

《日经亚洲》在文章中提到，美西方对中国实施的极限打压和封锁，实际上加速了中国的自主创新步伐。对于中国工程师而言，攻克关键光刻技术只是个时间问题。

据消息，中国已经能够独立制造28纳米制程的光刻机，借助多重曝光等工艺，可以将GPU尺寸缩小到如同小拇指般大小，完全规避了美国禁令的影响。事实上，中国已成功开发出性能与英伟达H20相当的芯片。

中国强调自主创新，并具备坚实的工业基础。依靠14亿人口构成的庞大市场，不断进行试验和改进，未来超越阿斯麦及日本的光刻机企业只是时间问题。