光显印科技申请双面透明导电膜及制备方法专利，保证高导电性的同时具有较高的透光率

金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，光显印科技（南通）有限公司申请一项名为“一种双面透明导电膜及双面透明导电膜的制备方法”的专利，公开号CN120183776A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明公开了一种双面透明导电膜及双面透明导电膜的制备方法，该双面透明导电膜中第一图案化胶层设置在第一面上，第二图案化胶层设置在第二面上，第一面和第二面相对设置。第一图案化胶层中设置有多个第一凹槽，多个第一凹槽连通设置，且第一凹槽中设置有第一导电叠层结构，多个第一导电叠层结构连接形成第一网格结构。第二图案化胶层中设置有多个第二凹槽，多个第二导电叠层结构连接形成第二网格结构。沿透明衬底的厚度方向，第一网格结构的垂直投影和第二网格结构的垂直投影重合。如此，通过设置双面的网格结构可以提高透明导电膜的性能，并且第一网格结构与第二网格结构精准对位，金属占空比大大减少，从而保证高导电性的同时具有较高的透光率。

天眼查资料显示，光显印科技（南通）有限公司，成立于2023年，位于南通市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，光显印科技（南通）有限公司专利信息8条，此外企业还拥有行政许可1个。

本文源自金融界