双突破！顶立科技石墨提纯、TaC涂层技术获国际领先认证

长沙晚报掌上长沙8月30日讯（全媒体记者 匡小娟）8月30日，记者从长沙经开区企业顶立科技获悉，该企业两项自主研发成果通过权威机构评价，均被认定为整体技术达到国际领先水平。其中，“天然石墨高温绿色提纯技术与装备”通过中国有色金属工业协会科技成果评价，“第三代半导体用高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用”通过湖南省技术产权交易所科技成果评价，标志着公司在先进材料制备领域的创新能力再获行业高度认可。

突破瓶颈：天然石墨连续式高温提纯实现产业化

天然石墨高温绿色提纯技术与装备由顶立科技联合五矿石墨、南昌大学、北京工业大学等单位和院校共同开发，针对传统湿法提纯工艺污染严重、间歇式高温提纯能耗高等行业痛点，成功研发出连续式高温绿色提纯技术与成套装备。

“项目突破了超长作业空间3000℃级热场构建与保持、长时连续提纯动态密封与高效排杂等关键技术瓶颈，实现了天然石墨高温提纯由间歇式到连续式的重大突破。”顶立科技相关负责人介绍，该技术在行业内首次实现了4N5以上天然石墨大规模连续化生产，为人造金刚石、新一代半导体4N5以上天然石墨稳定自主供应提供装备技术保障。

打破垄断：TaC涂层助力半导体自主可控

在第三代半导体材料领域，针对石墨产品传统TaC涂层工艺中存在的石墨基体纯度提升难、高结合高致密涂层沉积难、高均匀涂层批次稳定控制难等技术难题，顶立科技联合湖南三安半导体、南昌大学开发的高均匀高致密TaC涂层石墨件制备技术及应用项目取得重大突破。

技术团队通过突破6N以上高纯石墨基体提纯工艺、高均匀高致密TaC涂层制备技术，形成了涵盖“工艺—技术—装备”的TaC涂层石墨件制备成套技术，实现了高性能TaC涂层石墨件的批量稳定制备，为保障国家第三代半导体产业链安全、构建双循环新发展格局提供了关键支撑。

“此次两项国际领先成果的取得，彰显了公司在高端材料装备领域的持续创新能力。”该负责人表示，未来，顶立科技将继续聚焦先进材料制备领域，深化“产学研用”协同创新机制，为我国半导体、新能源、航空航天等战略性新兴产业提供更高水平的材料与装备解决方案，助力实现产业链供应链自主可控。